本發(fā)明涉及液晶顯示領(lǐng)域，尤其涉及一種拼接掩膜版及彩色濾光片的拼接曝光方法。

背景技術(shù)：

1、薄膜晶體管液晶顯示器(thin?film?transistor-liquid?crystal?display，縮寫(xiě)為tft-lcd)由兩片玻璃組成，其上端是彩色濾光片，下端是薄膜晶體管(thin?filmtransistor，縮寫(xiě)為tft)，中間夾著一層液晶，再搭配偏光板、背光板以及驅(qū)動(dòng)電路等元件組成一個(gè)完整的顯示模塊。其中，彩色濾光片（color?filter，縮寫(xiě)為cf）是組成薄膜晶體管液晶顯示器的關(guān)鍵零組件，用于讓液晶顯示器產(chǎn)生彩色畫(huà)面，其主要由透明玻璃基板、黑矩陣層（black?matrix，縮寫(xiě)為bm）和彩色光阻層等結(jié)構(gòu)組成。

2、當(dāng)前，接近式曝光機(jī)被廣泛應(yīng)用于彩色濾光片制作中。然而，受限于掩膜版尺寸，大于掩膜版尺寸的彩色濾光片難以獲得，從而無(wú)法滿足液晶產(chǎn)品越來(lái)越大的尺寸需要。

3、因此，亟需一種大尺寸彩色濾光片的制造方法。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種拼接掩膜版及彩色濾光片的拼接曝光方法，以提高形成的彩色濾光片的性能。

2、為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明技術(shù)方案提供一種拼接掩膜版，包括：相互之間通過(guò)遮光帶隔離的若干圖形模塊，若干所述圖形模塊包括中心圖形模塊，所述中心圖形模塊包括主圖形區(qū)、以及與所述主圖形區(qū)鄰接的至少包括第一中心拼接邊區(qū)和第二中心拼接邊區(qū)這一對(duì)相互配合的中心拼接邊區(qū)，所述第一中心拼接邊區(qū)和所述第二中心拼接邊區(qū)分別位于所述主圖形區(qū)在第一方向上相對(duì)的兩側(cè)，所述第一中心拼接邊區(qū)和所述第二中心拼接邊區(qū)上的圖形被配置為在預(yù)定位置進(jìn)行拼合，以共同形成目標(biāo)圖案，所述第一中心拼接邊區(qū)具有若干第一間隔和若干第一像素單元，所述第一間隔和所述第一像素單元交替排列，所述第二中心拼接邊區(qū)具有若干第二間隔和若干第二像素單元，所述第二間隔和所述第二像素單元交替排列，所述第一間隔的位置與所述第二像素單元的位置一一對(duì)應(yīng)，所述第二間隔的位置與所述第一像素單元的位置一一對(duì)應(yīng)。

3、可選的，相鄰兩個(gè)所述圖形模塊之間所述遮光帶的寬度范圍為大于或等于2mm。

4、可選的，所述中心圖形模塊還包括：第三中心拼接邊區(qū)和第四中心拼接邊區(qū)，共兩對(duì)相互配合的所述中心拼接邊區(qū)，所述第三中心拼接邊區(qū)和所述第四中心拼接邊區(qū)位于所述主圖形區(qū)在第二方向上的兩側(cè)，其上圖形被配置為在預(yù)定位置進(jìn)行拼合，以共同形成所述目標(biāo)圖案，所述第一方向和所述第二方向相互垂直。

5、可選的，所述中心圖形模塊還包括：位于所述主圖形區(qū)角部且相互配合的四個(gè)中心拼接角區(qū)，各所述中心拼接角區(qū)兩側(cè)分別與一個(gè)所述中心拼接邊區(qū)鄰接，四個(gè)所述中心拼接角區(qū)上的圖形被配置為在預(yù)定位置進(jìn)行拼合，以共同形成所述目標(biāo)圖案。

6、可選的，若干所述圖形模塊還包括：四個(gè)邊圖形模塊，一個(gè)所述邊圖形模塊與一個(gè)所述中心拼接邊區(qū)相對(duì)應(yīng)，各所述邊圖形模塊包括位于其相對(duì)兩邊的第一邊拼接邊區(qū)和第二邊拼接邊區(qū)、以及位于其第三邊的第三邊拼接邊區(qū)，所述第一邊拼接邊區(qū)和所述第二邊拼接邊區(qū)相互配合，其上的圖形被配置為在預(yù)定位置進(jìn)行拼合，以共同形成所述目標(biāo)圖案，所述第三邊拼接邊區(qū)與對(duì)應(yīng)的所述中心拼接邊區(qū)上的圖形被配置為在預(yù)定位置進(jìn)行拼合，以共同形成所述目標(biāo)圖案。

7、可選的，若干所述圖形模塊還包括：四個(gè)角圖形模塊，各所述角圖形模塊具有分別位于其相鄰兩邊的第一角拼接邊區(qū)和第二角拼接邊區(qū)，一個(gè)所述角圖形模塊與兩個(gè)所述邊圖形模塊相對(duì)應(yīng)，且一個(gè)所述邊圖形模塊與兩個(gè)所述角圖形模塊相對(duì)應(yīng)，所述第一角拼接邊區(qū)與對(duì)應(yīng)的一所述邊圖形模塊的所述第一邊拼接邊區(qū)相互配合，其上的圖形被配置為在預(yù)定位置進(jìn)行拼合，以共同形成所述目標(biāo)圖案，所述第二角拼接邊區(qū)與對(duì)應(yīng)的另一所述邊圖形模塊的所述第二邊拼接邊區(qū)相互配合，其上的圖形被配置為在預(yù)定位置進(jìn)行拼合，以共同形成所述目標(biāo)圖案。

8、可選的，所述角圖形模塊在所述第一方向上具有第一寬度,?所述中心圖形模塊在所述第一方向上具有第二寬度，所述第二寬度大于或等于兩倍的所述第一寬度；所述角圖形模塊在所述第二方向上具有第一長(zhǎng)度，所述中心圖形模塊在所述第二方向上具有第二長(zhǎng)度，所述第二長(zhǎng)度大于或等于兩倍的所述第一長(zhǎng)度。

9、相應(yīng)地，本發(fā)明技術(shù)方案還提供一種彩色濾光片的拼接曝光方法，包括：提供拼接掩膜版，所述拼接掩膜版包括相互之間通過(guò)遮光帶隔離的若干圖形模塊，若干所述圖形模塊包括中心圖形模塊，所述中心圖形模塊包括主圖形區(qū)、以及與所述主圖形區(qū)鄰接的至少包括第一中心拼接邊區(qū)和第二中心拼接邊區(qū)這一對(duì)相互配合的中心拼接邊區(qū)，所述第一中心拼接邊區(qū)和所述第二中心拼接邊區(qū)分別位于所述主圖形區(qū)在第一方向上相對(duì)的兩側(cè)，所述第一中心拼接邊區(qū)和所述第二中心拼接邊區(qū)上的圖形被配置為在預(yù)定位置進(jìn)行拼合，以共同形成目標(biāo)圖案，所述第一中心拼接邊區(qū)具有若干第一間隔和若干第一像素單元，所述第一間隔和所述第一像素單元交替排列，所述第二中心拼接邊區(qū)具有若干第二間隔和若干第二像素單元，所述第二間隔和所述第二像素單元交替排列，所述第一間隔的位置與所述第二像素單元的位置一一對(duì)應(yīng)，所述第二間隔的位置與所述第一像素單元的位置一一對(duì)應(yīng)；提供基板，所述基板包括中心區(qū)；根據(jù)所述中心圖形模塊的尺寸，將所述中心區(qū)劃分為大小相同的若干第一矩形區(qū)域，若干所述第一矩形區(qū)域沿所述第一方向排布；采用所述拼接掩膜版進(jìn)行拼接曝光，包括：采用所述中心圖形模塊依次對(duì)若干所述第一矩形區(qū)域進(jìn)行曝光，一個(gè)所述第一矩形區(qū)域?qū)?yīng)一個(gè)第一曝光區(qū)域，且相鄰兩個(gè)所述第一曝光區(qū)域之間具有重疊曝光區(qū)，以使前次曝光中第二中心拼接邊區(qū)的圖形和后次曝光中第一拼接邊區(qū)的圖形在所述基板上拼合成所述目標(biāo)圖案。

10、可選的，所述中心圖形模塊還包括：第三中心拼接邊區(qū)和第四中心拼接邊區(qū)，共兩對(duì)相互配合的所述中心拼接邊區(qū)，所述第三中心拼接邊區(qū)和所述第四中心拼接邊區(qū)位于所述主圖形區(qū)在第二方向上的兩側(cè)，其上圖形被配置為在預(yù)定位置進(jìn)行拼合，以共同形成所述目標(biāo)圖案，所述第一方向和所述第二方向相互垂直；若干所述第一矩形區(qū)域還沿所述第二方向排布；所述采用所述拼接掩膜版進(jìn)行拼接曝光還包括：使前次曝光中第四中心拼接邊區(qū)的圖形和后次曝光中第三拼接邊區(qū)的圖形在所述基板上拼合成所述目標(biāo)圖案。

11、可選的，所述中心圖形模塊還包括：位于所述主圖形區(qū)角部且相互配合的四個(gè)中心拼接角區(qū)，各所述中心拼接角區(qū)兩側(cè)分別與一個(gè)所述中心拼接邊區(qū)鄰接，四個(gè)所述中心拼接角區(qū)上的圖形被配置為在預(yù)定位置進(jìn)行拼合，以共同形成所述目標(biāo)圖案。

12、可選的，若干所述圖形模塊還包括：四個(gè)邊圖形模塊，一個(gè)所述邊圖形模塊與一個(gè)所述中心拼接邊區(qū)相對(duì)應(yīng)，各所述邊圖形模塊包括位于其相對(duì)兩邊的第一邊拼接邊區(qū)和第二邊拼接邊區(qū)、以及位于其第三邊的第三邊拼接邊區(qū)，所述第一邊拼接邊區(qū)和所述第二邊拼接邊區(qū)相互配合，其上的圖形被配置為在預(yù)定位置進(jìn)行拼合，以共同形成所述目標(biāo)圖案，所述第三邊拼接邊區(qū)與對(duì)應(yīng)的所述中心拼接邊區(qū)上的圖形被配置為在預(yù)定位置進(jìn)行拼合，以共同形成所述目標(biāo)圖案；所述基板還包括：分別位于所述中心區(qū)在所述第一方向上的兩側(cè)、以及所述第二方向上的兩側(cè)的四個(gè)邊區(qū)，一個(gè)所述邊區(qū)對(duì)應(yīng)一個(gè)所述邊圖形模塊；所述拼接曝光方法還包括：對(duì)各所述邊區(qū)，根據(jù)其對(duì)應(yīng)的所述邊圖形模塊的尺寸，將所述邊區(qū)劃分為大小相同的若干第二矩形區(qū)域，若干所述第二矩形區(qū)域沿所述第一方向或所述第二方向排布；所述采用所述拼接掩膜版進(jìn)行拼接曝光還包括：采用對(duì)應(yīng)的所述邊圖形模塊依次對(duì)若干所述第二矩形區(qū)域進(jìn)行曝光，一個(gè)所述第二矩形區(qū)域?qū)?yīng)一個(gè)第二曝光區(qū)域，且相鄰兩個(gè)第二曝光區(qū)域之間具有重疊曝光區(qū)，以使前次曝光中第二邊拼接邊區(qū)的圖形和后次曝光中第一邊拼接邊區(qū)的圖形在所述基板上拼合成所述目標(biāo)圖案。

13、可選的，若干所述圖形模塊還包括：四個(gè)角圖形模塊，各所述角圖形模塊具有分別位于其相鄰兩邊的第一角拼接邊區(qū)和第二角拼接邊區(qū)，一個(gè)所述角圖形模塊與兩個(gè)所述邊圖形模塊相對(duì)應(yīng)，且一個(gè)所述邊圖形模塊與兩個(gè)所述角圖形模塊相對(duì)應(yīng)，所述第一角拼接邊區(qū)與對(duì)應(yīng)的一所述邊圖形模塊的所述第一邊拼接邊區(qū)相互配合，其上的圖形被配置為在預(yù)定位置進(jìn)行拼合，以共同形成所述目標(biāo)圖案，所述第二角拼接邊區(qū)與對(duì)應(yīng)的另一所述邊圖形模塊的所述第二邊拼接邊區(qū)相互配合，其上的圖形被配置為在預(yù)定位置進(jìn)行拼合，以共同形成所述目標(biāo)圖案；所述基板還包括：分別位于所述中心區(qū)四角的四個(gè)角區(qū)，各所述角區(qū)兩側(cè)分別與兩個(gè)所述邊區(qū)相鄰接，一個(gè)所述角區(qū)對(duì)應(yīng)一個(gè)所述角圖形模塊；所述拼接曝光還包括：采用對(duì)應(yīng)的所述角圖形模塊分別對(duì)四個(gè)所述角區(qū)進(jìn)行曝光，以在所述角區(qū)形成第三曝光區(qū)域，所述第三曝光區(qū)域與相鄰的第二曝光區(qū)域之間具有重疊區(qū)域，以使第一角拼接邊區(qū)的圖形和對(duì)應(yīng)的第一邊拼接邊區(qū)的圖形在所述基板上拼合成所述目標(biāo)圖案，使所述第二角拼接邊區(qū)與對(duì)應(yīng)的第二邊拼接邊區(qū)的圖形在所述基板上拼合成所述目標(biāo)圖案。

14、可選的，在所述拼接曝光中控制偏差精度≤1μm。

15、現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案具有以下有益效果：

16、本發(fā)明技術(shù)方案提供的拼接掩膜版中，采用所述拼接掩膜版進(jìn)行拼接曝光可以形成大于一個(gè)掩膜版尺寸的彩色濾光片，而且通過(guò)前后兩次曝光在拼接處具有重疊曝光區(qū)，可以使前次曝光中第二中心拼接邊區(qū)的圖形和后次曝光中第一拼接邊區(qū)的圖形在基板上拼合成所述目標(biāo)圖案，由于第二中心拼接邊區(qū)的圖形和第一拼接邊區(qū)的圖形的相對(duì)錯(cuò)位設(shè)置，使拼接的細(xì)微差異分散，從而在設(shè)計(jì)層面降低拼接縫的可視程度，在形成大尺寸彩色濾光片的同時(shí)，可減少拼接曝光形成的拼縫帶來(lái)的不良影響。

17、本發(fā)明技術(shù)方案提供的彩色濾光片的拼接曝光方法中，采用所述拼接曝光方法可以形成大于一個(gè)掩膜版尺寸的彩色濾光片，而且通過(guò)前后兩次曝光在拼接處具有重疊曝光區(qū)，可以使前次曝光中第二中心拼接邊區(qū)的圖形和后次曝光中第一拼接邊區(qū)的圖形在基板上拼合成所述目標(biāo)圖案，由于拼接掩膜版上的第二中心拼接邊區(qū)的圖形和第一拼接邊區(qū)的圖形的相對(duì)錯(cuò)位設(shè)置，使拼接的細(xì)微差異分散，從而在設(shè)計(jì)層面降低拼接縫的可視程度，在形成大尺寸彩色濾光片的同時(shí)，可減少拼接曝光形成的拼縫帶來(lái)的不良影響。